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聚焦离子束 当前位置:首页 - 产品展示
 
产品名称:聚焦离子束成像原理

产品介绍:

      聚焦离子束的成像原理与扫描电子显微镜基本相同,都是利用探测器接受二次激发出的二次电子来成像,不同之处是以聚焦离子束代替电子束。聚焦离子束轰击样品表面,激发出二次电子、中性原子、二次离子和光子等,收集这些信号,经处理显示样品的表面形貌。

      目前聚焦离子束系统的成像分辨率已达到5nm-10nm,尽管比扫描电子显微镜低,但聚焦离子束成像具有更加真实地反映材料表面形貌的优点。当用镓离子轰击样品时,正电荷会优先集聚到绝缘区域或分立的导电区域,抑制二次电子的激发,一次样品上绝缘区域或分分立的导电区域,抑制二次电子的激发,因此样品上的绝缘区域和分立的导体区域会在离子像上颜色较暗,而接地导体会亮一些,这样就增加了离子成像的衬度。对于同种材料,离子束成像时,不同的晶面的二次电子、二次离子产额有较大的差别,造成各晶面所形成不同衬度的图案,利用这一原理可以对多晶材料薄膜的晶粒取向、晶界的分布和取向做出统计分析。不同材料对离子束成像的贡献差别也会有很大差别。

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