产品介绍：

       聚焦离子束也可以像电子束那样作为一种曝光手段。离子束曝光有非常高的灵敏度，这主要是因为在固体材料中的能量转移的效率远远高于电子。常用的电子束曝光抗蚀剂对离子的灵敏度要比电子束高100倍以上。
除了灵敏度高之外。离子束曝光的另一优点是几乎没有临近反应。由于离子本身的质量远大于电子，离子在抗蚀剂中的散射范围要远小于电子，并且几乎没有背散射效应。
      离子束曝光是一种类似于电子束曝光的技术，它是在聚焦离子束技术的基础上将原子离化后形成的能量控制在10-200keV范围内，再对抗蚀剂进行曝光，从而获得微细线条的图形。其曝光机理是离子束照射抗蚀剂并在其中沉积能量，使得抗蚀剂起降解或者交联反应，形成良溶胶或者非溶凝胶，再通过显影，获得溶与非溶的对比图形。
      聚焦离子束曝光技术自发展以来，由于其曝光深度有限以及曝光系统和曝光工艺的复杂性，发展受到了限制。但在实验条件下，聚焦离子束仍可以作为制作小批量研究性质的器件的一种工具。真正把聚焦离子束认真作为一种大规模集成电路生产的曝光工具来开发是20世纪90年代后期的聚焦离子束投影曝光技术。如您有用应用聚焦离子束的需要，欢迎联系我们！